Безопасность/вред

Безопасный компонент для использования в назначенных рецептах.

RU Описание

HYDROXYCYCLOHEXYL PHENYL KETONE Функция в косметике Фотоинициатор. Hydroxycyclohexyl Phenyl Ketone представляет собой синтетическое соединение, используемое в косметических продуктах преимущественно в качестве фотоинициатора полимеризации. Данный ингредиент активирует процесс отверждения и полимеризации покрытий при воздействии ультрафиолетового излучения. Наиболее широко применяется в составах для УФ-отверждаемых лаков для ногтей (гель-лаков), а также в некоторых защитных покрытиях и адгезивных системах, используемых в косметической индустрии. Косметические эффекты • Обеспечение быстрого отверждения гель-лаковых покрытий — in vitro • Формирование прочной и устойчивой полимерной плёнки на ногтях — in vitro • Повышение стойкости и долговечности маникюрного покрытия — in vivo • Обеспечение высокого глянцевого блеска покрытия — in vivo • Улучшение адгезии покрытия к поверхности ногтевой пластины — in vitro Происхождение Синтетическое. Hydroxycyclohexyl Phenyl Ketone получают путём химического синтеза, как правило, через восстановление или гидроксилирование соответствующих производных фенилкетона. Соединение относится к классу альфа-гидроксикетонов и не имеет природных аналогов, применяемых в косметических целях. Производство осуществляется в контролируемых условиях промышленного органического синтеза с последующей очисткой до косметического или технического класса чистоты. Процент ввода в косметику От 0,5% до 5,0%. В составах гель-лаков и УФ-отверждаемых покрытий для ногтей типичная концентрация составляет от 1% до 4%. В отдельных специализированных формулах, требующих ускоренного отверждения, допускается использование до 5%. В составах, предназначенных для нанесения на кожу, концентрация значительно ниже и, как правило, не превышает 1%. Точная дозировка определяется типом УФ-источника, толщиной наносимого слоя и требуемой скоростью полимеризации. Важно учитывать, что при использовании в рекомендованных концентрациях остаточное количество непрореагировавшего фотоинициатора в полностью отверждённом покрытии минимально.