NOSTRUM Питательная и восстанавливающая маска для волос
AQUA
ВОДА
CETEARYL ALCOHOL
ЦЕТЕАРИЛОВЫЙ СПИРТ
POLYQUATERNIUM-22
ПОЛИКВАТЕРНИУМ-22
CETRIMONIUM CHLORIDE
ЦЕТИЛТРИМЕТИЛАММОНИЙ ХЛОРИД
IMIDAZOLIDINYL UREA (...
ИМИДАЗОЛИДИНИЛ МОЧЕВИНА (ФОРМАЛЬДЕГИД РЕЛИЗЕР)
DMDM HYDANTOIN
ДМДМ ГИДАНТОИН
METHYLCHLOROISOTHIAZO...
МЕТИЛХЛОРОИЗОТИАЗОЛИНОН
METHYLISOTHIAZOLINONE...
МЕТИЛИЗОТИАЗОЛИНОН
AMODIMETHICONE
АМОДИМЕТИКОН
TRIDECETH-12
ТРИДЕЦЕТ-12
PANTHENOL
ПАНТЕНОЛ
CITRIC ACID
ЛИМОННАЯ КИСЛОТА
PEG-8
ПЭГ-8
PEG-8/ SMDI COPOLYMER...
ПЭГ-8/ СМДИ СОПОЛИМЕР
PALMITOYL MYRISTYL SE...
ПАЛЬМИТОИЛ МИРИСТИЛ СЕРИНАТ
SODIUM POLYACRYLATE
НАТРИЯ ПОЛИАКРИЛАТ
ARGANIA SPINOSA (ARGA...
МАСЛО АРГАНЫ
OLEA EUROPAEA (OLIVE)...
МАСЛО ОЛИВЫ
AROMA
ОТДУШКА ПАРФЮМЕРНАЯ
BENZYL SALICYLATE
БЕНЗИЛСАЛИЦИЛАТ
BUTYLPHENYL METHYLPRO...
БУТИЛФЕНИЛ МЕТИЛПРОПИОНАЛЬ
COUMARIN
КУМАРИН
inci
Ингредиент не оказывает негативного влияния на окружающую среду.
Не следует постоянно применять средства, содержащие данный компонент.
Содержится в бобах тонка и многих эфирных маслах. Получают синтетически. Применяется в широком ассортименте парфюмерных композиций и различных отдушек. Обладает фотозащитным свойством. Является веществом, способным вызвать аллергические реакции. В соответствии с законодательством ЕС 1223/2009 и ТР ТС 009/2011 наличие данного компонента в составе парфюмерного продукта обязательно должно быть указано на этикетке косметического или парфюмерного изделия,если его концентрация превышает 0.001% в несмываемых и 0.01% в смываемых продуктах. Fragrance Ingredient; MASKING
HEXYL CINNAMAL
ГЕКСИЛЦИННАМАЛ
LIMONENE
ЛИМОНЕН